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  2. 日本理學連續波長色散X射線熒光光譜儀ZSX Primus 400-華普通用

    型號:ZSX Primus 400
    Rigaku 獨特的 ZSX Primus 400 連續波長色散 X 射線熒光 (WDXRF) 光譜儀專為處理非常大或重的樣品而設計。

    產品描述

    連續波長色散X射線熒光光譜儀

    Rigaku 獨特的 ZSX Primus 400 連續波長色散 X 射線熒光 (WDXRF) 光譜儀專為處理非常大或重的樣品而設計。該系統可接受直徑最大為 400 毫米、厚度為 50 毫米和質量為 30 千克的樣品,非常適合分析濺射靶材、磁盤,或用于多層薄膜計量或大型樣品的元素分析。

    優點

    帶有定制樣品適配器系統的 XRF,適應特定樣品分析需求的多功能性,可使用可選適配器插件適應各種樣品尺寸和形狀。憑借可變測量點(直徑 30 毫米至 0.5 毫米,具有 5 步自動選擇)和具有多點測量的映射功能以檢查樣品均勻性。

    具有可用相機和特殊照明的 XRF,可選的實時攝像頭允許在軟件中查看分析區域。

    仍保留了傳統儀器的所有分析能力。


    安全性

    采用上照射設計,樣品室可簡單移出,再不用擔心污染光路,清理麻煩和增加清理時間等問題。


    應用領域

    固體、液體、粉末、合金和薄膜的元素分析:

    濺射靶材組成.

    隔離膜:SiO2、BPSG、PSG、AsSG、Si?N?、SiOF、SiON等。

     k 和鐵電介質薄膜:PZT、BST、SBT、Ta2O5、HfSiOx

    金屬薄膜:Al-Cu-Si、W、TiW、Co、TiN、TaN、Ta-Al、Ir、Pt、Ru、Au、Ni等。

    電極膜:摻雜多晶硅(摻雜劑:B、N、O、P、As)、非晶硅、WSix、Pt等。

    其他摻雜薄膜(As、P)、困惰性氣體(Ne、Ar、Kr等)、CDLC

    鐵電薄膜、FRAM、MRAM、GMR、TMR;PCM、GST、GeTe

    焊料凸點成分SnAg、SnAgCuNi

    MEMSZnO、AlN、PZT的厚度和成分

    SAW器件工藝AlN、ZnO、ZnS、SiO 2(壓電薄膜)的厚度和成分;Al、AlCu、AlSc、AlTi(電極膜)


    ■ 技術參數

    大樣本分析最大 400 毫米(直徑),最大 50 毫米(厚度),高達 30 千克(質量)

    樣品適配器系統,適用于各種樣本量

    測量點30 毫米至 0.5 毫米直徑,5步自動選擇

    映射能力,允許多點測量

    樣品視圖相機(可選

    分析范圍Be - U

    元素范圍:ppm  %

    厚度范圍:sub ?  mm

    衍射干擾抑制(可選單晶襯底的準確結果

    符合行業標準SEMI、CE標志

    占地面積小,以前型號的 50% 占地面積





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